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真空鍍膜工藝

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真空鍍膜工藝

發布日期:2019-01-18 作者:鼎頂鍍膜有限公司 點擊:

真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用,工業化大規模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜工藝的表面處理通常鍍膜之前應對基材進行除油、除塵等預處理,以保證鍍件的整潔、干燥避免底涂層出現麻點、附著力差等缺點。對于特殊材料,如PE (聚乙烯)料等,還應對其進行改性以達到鑲膜的預期效果.在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜

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