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真空镀膜工艺

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真空镀膜工艺

发布日期:2019-01-18 作者:鼎顶镀膜有限公司 点击:

真空镀膜技术初现于20世纪30年代,四五十年代开始出现工业应用,工业化大规模生产开始于20世纪80年代,在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜工艺的表面处理通常镀膜之前应对基材进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE (聚乙烯)料等,还应对其进行改性以达到镶膜的预期效果.在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜

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